黃仁勛：中國2030搞定國產先進光刻

BiRun 訊，黃仁勛在 All-In 峯會上判斷，黃仁勛在 All-In 峯會上判斷，中國到 2030 年就能做出自己的先進光刻系統。他還認為，一旦技術成熟，中國有很強的大規模生產能力，國產設備進入本土晶圓廠只是時間問題。

這個判斷明顯比蔡司更樂觀。蔡司半導體負責人 Frank Rohmund 最近稱，中國要做出國產 EUV 光刻機，可能還需要約 15 年。蔡司是 ASML EUV 光學系統的覈心供應商。

不過主持人問的是「advanced lithography systems」，沒有具體限定為 EUV，黃仁勛在回答中也沒有進一步說是 EUV。

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