中微公司：減壓外延設備已付運到先進製程客戶端進入量產驗証階段，常壓外延設備也在進入晶圓驗証階段

中微公司在分析師會議表示，PECVD及CuBS PVD是薄膜沉積設備中價值佔比高的產品。公司的PECVD設備具備16個反應台配置，採用了最新的等離子體源，具有更高的沉積速度，輸出量較國內外標配設備提昇80%到100%。PECVD氮氧疊層、碳掩膜等新品在客戶端順利驗証中。公司的CuBS PVD設備配置14個反應腔、對稱雙路徑設計，相較國內外標配設備大幅降低BS的電阻率，輸出率提昇50%至100%，獲得多家頭部客戶認可，並已交付至國內先進邏輯器件研發綫驗証中。EPI設備是先進邏輯工藝中非常關鍵的設備，公司的減壓外延設備已付運到先進製程客戶端進入量產驗証階段，常壓外延設備也在進入晶圓驗証階段。